日焼けによる肌乾燥のメカニズムを解明 — 角層細胞タンパクのカルボニル化と活性酸素生成のループが関与 — 東京工科大学応用生物学部

◎日焼けによる肌乾燥のメカニズムを解明 — 角層細胞タンパクのカルボニル化と活性酸素生成のループが関与 — 東京工科大学応用生物学部

[東京工科大学]
【先端研究】
▼東京工科大学（東京都八王子市／学長：軽部征夫）応用生物学部の正木仁（まさきひとし）教授らの研究チームは、角層細胞に存在するカルボニルタンパク（注1）が、紫外線から活性酸素を生成することでさらに増加し、皮膚の乾燥を誘導するメカニズムを明らかにした（図1）。 本研究成果は、2015年6月に開催された第40回日本香粧品学会学術大会にて発表した。
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